南昌程序数显箱式炉供应 操作方便 温度分布均匀

箱式电阻炉烘炉操作规程

一、操作规程

(1)设备检查:

1)安装前先按基础图检查地基是否符合要求。

2)检查炉子附件是否,运输过程有否损坏,炉衬有无开裂和塌陷,电热元件有否拆断和脱离搁砖现象。检查电器控制箱内及炉内是否有工具或其他导电物质,若有应及时,特别是电热元件的接线柱,必须确保没有松动现象,安全防护罩必须完整有效。

3)烘干前,应用万用表测量电热元件与炉壳间的电阻,不允许有短路现象。烘干后,应用500V兆欧表测量冷态绝缘电阻值不小于0.5兆欧。

4)电阻炉应有良好的接地装置。

5)炉壳外的带电部分和传动装置,应加保护罩壳。为保证操作安全可靠,要设置必要的保护措施,如过流继电器、压力继电器和自动断路开关等。

6)电控、温控柜应安置在炉子一侧,不能距炉子太远,便于操作。控制柜后门距墙壁要大于600mm。

7)管路要按规定涂上不同颜色,以示区别。

8)炉子主回路电缆和热电偶补偿导线应敷设在地沟中,上面覆盖板。

(2)烘炉:

1)按以下工艺通电烘烤

150℃ 6h小时炉门打开

300℃ 2小时炉门打开

600℃ 2小时炉门关闭

850℃ 2h 炉门关闭

2)炉子起动:将控温仪表的温度控制指示数字调整到工艺要求温度的位置

上,然后接通设备总电源开关,打开仪表和加热炉开关,炉子开始升温至工艺温度。

二、操作注意事项

(1)炉温**400℃时不允许打开炉门。

(2)高温度不**过额定温度。

(3)烘炉过程中将炉壳盖板取下,使砌体内的水蒸气易于散出。

(4)使用一个月后,应检查炉**处的硅藻土之状态,如陷下去应再填满电阻炉外壳采用冷轧钢板制作或不锈钢外壳，表面喷涂工艺处理、炉门采用满门式结构、启闭灵活。

工业箱式气氛炉是一种用于热处理金属材料的设备。它采用箱式结构，内部设有加热元件和控制系统，可通过调节加热温度和气氛组成，实现对金属材料的热处理。

工业箱式气氛炉的主要特点包括：

1. 灵活性高：可以根据不同的热处理需求，调节加热温度和气氛组成，以实现不同的热处理效果。

2. 温度控制：箱式气氛炉配备了的温度控制系统，可以控制加热温度，确保热处理的稳定性和一致性。

3. 省时省力：工业箱式气氛炉具有快速加热和冷却的能力，可以提高热处理效率，节省时间和人力成本。

4. 安全可靠：工业箱式气氛炉采用的安全控制系统，具有过温、过压等保护功能，确保操作人员的安全。

5. 应用广泛：工业箱式气氛炉可用于金属材料的热处理，包括淬火、回火、退火、时效等工艺。

总之，工业箱式气氛炉是一种重要的热处理设备，广泛应用于金属加工行业，能够提高产品的质量和性能。

真空气氛箱式炉是一种用于高温处理材料的设备，它能够在真空或特定气氛下进行加热和冷却。这种炉子通常由一个加热室和一个真空或气氛控制系统组成。

真空气氛箱式炉的加热室通常由高温材料制成，如不锈钢或陶瓷，以承受高温环境。加热室内部通常有加热元件，如电阻丝或加热器，用于提供加热能源。

真空气氛箱式炉的真空系统可以通过真空泵将加热室内部的气体抽出，从而实现真空环境。真空环境可以用于去除氧气和其他杂质，以防止材料的氧化或污染。此外，真空环境还可以提供的热传导和均匀性，以实现的加热效果。

气氛控制系统可以通过向加热室中引入特定气体，如氮气、或氩气，来控制炉内的气氛。这种气氛控制可以改变材料的化学反应、表面性质或其他特性。

真空气氛箱式炉广泛应用于材料研究、金属加工、陶瓷制造、粉末冶金等领域。它可以用于烧结、退火、热处理、合金制备等工艺。

大型箱式气氛炉是一种用于高温处理的热处理设备。它通常由一个箱体和加热系统组成，箱体内部有一定的容积，可以容纳较大尺寸的工件。气氛炉可以通过控制内部气氛的成分和压力来实现不同的热处理效果。

大型箱式气氛炉通常用于金属材料的热处理，如退火、淬火、回火等工艺。它具有温度控制精度高、加热均匀、操作方便等特点。在热处理过程中，可以通过调节内部气氛的成分，如氧气、氮气、等，来控制工件表面的化学成分和物理性能。

大型箱式气氛炉广泛应用于、汽车制造、机械加工等行业，用于对大型工件进行热处理，提高其硬度、强度、耐磨性等性能。同时，它也可以用于陶瓷、玻璃等非金属材料的热处理，如烧结、烧结陶瓷等工艺。

真空箱式气氛炉适用于以下场景：

1. 金属热处理：真空箱式气氛炉可以在无氧或低氧环境下进行金属热处理，如退火、淬火、固溶处理等。真空环境可以防止金属材料的氧化、烧结或气体污染，提高热处理质量。

2. 粉末冶金：真空箱式气氛炉可以在无氧或低氧环境下进行粉末冶金工艺，如烧结、热压烧结等。在真空环境下，可以避免粉末材料的氧化或气体污染，提高烧结密度和材料性能。

3. 半导体制造：真空箱式气氛炉可以在无氧或低氧环境下进行半导体材料的制备和处理，如晶体生长、薄膜沉积、退火等。真空环境可以避免杂质的污染和氧化对半导体材料性能的影响。

4. 玻璃加工：真空箱式气氛炉可以在无氧或低氧环境下进行玻璃的烧结、退火、形状修整等加工工艺。真空环境可以避免玻璃材料的氧化和气体污染，提高加工质量和透明度。

5. 其他特殊材料加工：真空箱式气氛炉还可以用于其他特殊材料的加工，如陶瓷、陶瓷复合材料、纳米材料等。真空环境可以提供无氧或低氧条件，避免材料的氧化或气体污染，提高加工质量和性能。